2010上?？茖W(xué)儀器展3月開幕--參展指南
2010第22屆國(guó)際共聚焦顯微成像學(xué)術(shù)研討會(huì)暨設(shè)備展,由國(guó)際Focus On Microscopy 學(xué)會(huì)，上海交通大學(xué)、上海激光學(xué)會(huì)主辦,本展會(huì)于2010/3/28至2010/3/31在上海光大會(huì)展中心舉辦,展廳面積為3750平方米.預(yù)計(jì)展出面積3750平方米
歷屆展會(huì)數(shù)據(jù)對(duì)比
參展范圍
■共聚焦與多光子顯微成像；
■電子顯微成像新技術(shù)及應(yīng)用；
■超高分辨核磁共振與X 射線醫(yī)學(xué)功能成像；
■新型熒光標(biāo)記，熒光蛋白質(zhì)，量子點(diǎn)，單分子成像；
■時(shí)間分辨熒光探測(cè)-FRET，F(xiàn)RAP，F(xiàn)LIM，F(xiàn)CS；
■非線性相干顯微學(xué)-SHG，THG，SFG，CARS；
■拉曼與散射顯微技術(shù)應(yīng)用；
■多維度成像技術(shù)；
■亞波長(zhǎng)分辨率和近場(chǎng)成像技術(shù)-STED，PALM；
■激光操控，燒蝕與微切片，光動(dòng)力；
■光學(xué)工具在基因組學(xué)、蛋白質(zhì)學(xué)、細(xì)胞學(xué)中的應(yīng)用；
■圖像處理與可視化；
■活細(xì)胞與組織成像；新型照明與探測(cè)技術(shù)。
參展費(fèi)用
暫無信息
參展咨詢
聯(lián)系電話：021-59555732
QQ:在線客服
